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常州萬科儀器科技有限公司

想了解高低溫恒溫水槽的性能和特點就看這篇文章

點擊次數(shù):1148  更新時間2021-10-14  【關閉

     
      高低溫恒溫水槽廣泛應用于石油.化工,電子儀表,物理,化學,生物工程,醫(yī)藥衛(wèi)生,生命科學,輕工食品物性測試及化學分析等研究部門,高等院校,企業(yè)質檢及生產部門,為對實驗樣品或生產的產品進行恒定溫度實驗或測試,也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。
     
      高低溫恒溫水槽的性能:
     
      數(shù)顯分辨率0.001℃,溫度波動度±0.005℃~±0.02℃可選
     
      全封閉壓縮機制冷,zui低溫度可達-40.000℃
     
      具有循環(huán)泵,可建立機外第二恒溫場或冷卻機外第二實驗容器
     
      溫度測量值偏差可修正,溫度數(shù)顯精度可達0.001℃
     
      具有自整定智能PID控制功能
     
      上下限溫度報警可設定
     
      高低溫恒溫水槽的產品特點:
     
      節(jié)約能源:在夏季和高環(huán)境溫度下,冷卻水可在系統(tǒng)回路中循環(huán)使用,節(jié)約大量的水資源。
     
      效率更高:一臺循環(huán)水設備可同時滿足多臺外部設備的冷卻需求,持續(xù)提供低溫恒溫水源,適用于冷凝實驗。
     
      控溫精度:PID控溫技術,內置PT100傳感器、控溫精度高,溫度數(shù)字顯示,操作直觀
     
      安全性高:具有自我診斷功能;冷凍機過載保護等多種安全保障功能。
     
      高精度低溫恒溫水槽JDH-2010用途:
     
      生化領域:旋轉蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器(合成器)等。
     
      材料領域:電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。
     
      醫(yī)療領域:超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波治療機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。物化領域:激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。
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